Fotorezistlar, yengil sezgir polimer materiallar bo‘lib, ultrabinafsha yoki ko‘rinadigan nur ta’sirida kimyoviy xossalarini o‘zgartiradi. Ularning asosiy vazifalari: nurning ta’siri orqali maska naqshini yaratilgan naqshga o‘tkazish, mikro- va nanoqurilmalarni fotolitografiya orqali shakllantirish, polimer qatlamni selektiv eritish yoki qotirish orqali yuqori o‘lchovli kontur hosil qilish, yuzalarni himoya qilish va jarayon davomida qatlamni barqaror tutish